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PCB布线需要注意哪些问题?
PCB布线需要注意哪些问题?

热点精选

  • 捷多邦工艺解读:控深槽与机械铣槽差别大吗

    捷多邦工艺解读:控深槽与机械铣槽差别大吗

    在PCB加工中,控深槽与机械铣槽都是利用CNC铣刀进行的减材工艺,但两者在目的、精度和工艺要求上有明显差别。理解它们的区别,有助于设计人员在文件标注与工艺选择时避免混淆。 一、工艺目的不同机械铣槽:通常用于分板、成型或开通透槽,其目标是完全切穿板材,形成...

    发布时间:2025/9/10

  • 捷多邦提醒:控深槽深度设计不合理的后果

    捷多邦提醒:控深槽深度设计不合理的后果

    控深槽工艺在PCB设计中应用广泛,常用于实现台阶结构、局部减薄或器件安装空间。然而,深度作为该工艺的核心参数,一旦设计不合理,就可能引发多方面的后果,影响电气性能、机械强度和装配可靠性。 1. 过深的后果削弱机械强度:当槽深超过板厚的合理比例(通常不超过...

    发布时间:2025/9/10

  • 捷多邦经验分享:控深槽能不能替代盲槽?

    捷多邦经验分享:控深槽能不能替代盲槽?

    在PCB设计与制造中,盲槽与控深槽都是常见的特殊工艺。二者在形态上有些相似,都涉及“部分深度”的加工,因此常有人提出:控深槽能否在某些情况下替代盲槽? 一、盲槽与控深槽的定义差异盲槽:通过钻孔或激光形成,连接外层与一部分内层。它是电气通孔,承担信号传...

    发布时间:2025/9/10

  • 捷多邦解析:控深槽常见的加工公差问题

    捷多邦解析:控深槽常见的加工公差问题

    PCB制造中,控深槽是一种精细的机械加工工艺,常用于实现局部减薄、台阶结构或特殊安装空间。然而,由于涉及槽深、槽宽及位置精度,该工艺对设备和工艺控制要求极高,加工公差问题也因此较为突出。 1. 槽深公差槽深是控深槽的核心指标。若深度不足,可能导致器件装配...

    发布时间:2025/9/10

  • 控深槽会不会影响板材强度?

    控深槽会不会影响板材强度?

    控深槽工艺与板材结构强度的关系在多层PCB设计中,控深槽常用于实现台阶结构、局部开槽或局部减薄,以满足器件封装、散热或结构配合的需求。虽然该工艺提升了设计的灵活性,但也不可避免地会影响板材的整体力学强度。槽深、槽宽、走向与板厚之间的关系,决定了PCB在...

    发布时间:2025/9/10

  • 控深槽设计到底该怎么标注?新人容易出错的点

    控深槽设计到底该怎么标注?新人容易出错的点

    为什么控深槽标注很重要控深槽属于PCB中较为复杂的机械加工工艺,涉及到深度控制、公差分配和层次关系。如果设计文件标注不清晰,工厂容易误解,最终导致加工深度偏差、层间损伤,甚至报废。特别是多层板中涉及信号层或电源层时,标注不当的风险更大。 正确的控深槽...

    发布时间:2025/9/10

  • 控深槽为什么容易造成局部翘曲?

    控深槽为什么容易造成局部翘曲?

    控深槽工艺与翘曲问题在PCB制造中,控深槽是一种常用的特殊加工工艺,主要通过数控铣刀在基材上铣出一定深度的槽位。然而,实际生产中常出现一个难题:局部翘曲。这种变形会影响装配精度,甚至导致后续SMT贴装和测试过程中的隐患。 翘曲的主要原因 应力不均衡控深槽...

    发布时间:2025/9/10

  • PCB控深槽到底能控多深?精度问题有多大影响

    PCB控深槽到底能控多深?精度问题有多大影响

    在高密度互连(HDI)和特殊结构电路板的设计中,控深槽是一项重要工艺。其主要作用是通过在基材上进行部分深度的铣槽或切割,实现分层导通、结构配合或特殊电气性能需求。常见应用包括:背钻处理、沉孔预加工、散热槽开设,以及需要装配特殊器件的结构槽位。 可控深...

    发布时间:2025/9/10

  • 捷多邦工艺解答:电镀填孔加工失败的典型案例

    捷多邦工艺解答:电镀填孔加工失败的典型案例

    一、引言电镀填孔工艺虽然在高密度互连(HDI)和 BGA 焊盘填孔中应用广泛,但由于其涉及电流分布、药液扩散、孔内流体动力学等多个变量,失败案例并不少见。以下结合典型失效模式,分析其成因与应对策略。 二、典型失败案例孔内空洞(Void)现象:X-Ray 检测中可见孔...

    发布时间:2025/9/8

  • 捷多邦提醒:电镀填孔能否兼顾导通与平整

    捷多邦提醒:电镀填孔能否兼顾导通与平整

    一、问题提出电镀填孔的核心目标是:实现孔内可靠导通,同时在孔口区域形成与外层铜箔平齐的镀层,保证后续贴装的平整性。实际生产中,这两个目标常常互相矛盾:过分追求填充会导致表面隆起,强调表面平整又可能出现孔底沉积不足。 二、导通与平整的技术矛盾导通优先...

    发布时间:2025/9/8