长期以来，全球高端光刻机市场被荷兰ASML、日本JEOL等少数企业垄断，形成 “技术壁垒+价格垄断”的格局——国际主流电子束光刻机单台售价超2亿元，且对技术输出设置严格限制。而浙江大学 “羲之” 光刻机的应用，正打破这一格局，为全球高端光刻机市场注入 “中国力量”。
“羲之”的竞争优势体现在 “精度+效率+成本” 三重维度：0.6nm 定位精度超越日本 JEOL 设备（±5nm），3 倍加工效率领先荷兰ASML同类产品，且因78%的国产化率，设备价格较国际主流产品低 30%，这种 “高性能+低价格” 的组合，已吸引东南亚、欧洲的中小芯片企业关注，目前已有 3 家海外企业表达合作意向。
更重要的是，“羲之” 的技术路线为全球光刻机发展提供了新方向。传统光刻机依赖复杂的光学系统与掩膜技术，而 “羲之” 采用的电子束无掩膜直写技术，避开了光学元件的技术瓶颈，且更适配量子芯片、先进封装等新兴领域的制造需求。这种技术创新，有望推动全球光刻机从 “光学时代” 向 “电子束时代” 转型。
随着 “羲之” 逐步打开国际市场，国产半导体产业链的国际影响力也将提升。线路板作为芯片应用的配套环节，将伴随国产芯片、设备的出口走向全球 —— 海外芯片企业采用 “羲之” 制造芯片后，可能优先选择适配的国产线路板产品，线路板企业可借势拓展国际高端市场，提升全球份额。
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